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首页 > 学位首页  > 化学机械抛光机理及磁头/磁盘系统静态特性的研究
化学机械抛光机理及磁头/磁盘系统静态特性的研究
摘要: 随着计算机技术的快速发展,作为计算机数据存储的主要部件的硬盘相应朝着大容量、高转速、小体积和高安全性的方向发展。为了减小磁盘盘片的最小记录面积、提高硬盘存储密度,要求磁头与磁盘盘片之间的距离进一步减小。在如此小的间隙间,磁盘盘片的表面波纹度、粗糙度以及纳米划痕对磁头的飞行稳定性的影响日益明显,因此研究磁盘盘片的表面质量对硬盘的磁头/磁盘系统的静态特性的影响有...   查看全部>>

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