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首页 > 学位首页  > 多弧离子镀磁过滤装置关键技术研究
多弧离子镀磁过滤装置关键技术研究
摘要: 真空多弧离子镀是目前应用广泛的表面处理技术之一。其环境友好,所镀薄膜综合性能优异。但镀膜过程中产生的大颗粒污染影响会薄膜表面质量和性能,严重制约了其在半导体行业等高性能薄膜制备中的应用。实际应用中,为限制大颗粒污染,采取了各种技术措施,磁过滤装置便是其中之一。
  本文基于COMSOL Multiphys(1)cs53有限元仿真软件,针对不同类型磁过滤...   查看全部>>

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